Ei, monoetyleeniglykoli (MEG) ei yleensä syövytä metalleja puhtaana tai oikein formuloituna, mutta se voi muuttua syövyttäväksi hajoaessaan tai saastuneissa olosuhteissa.
Puhdasta MEG:tä pidetään tyypillisesti kemiallisesti stabiilina yleisiä teknisiä metalleja, kuten hiiliterästä ja ruostumatonta terästä kohtaan, ja sen korroosionopeus on niin alhainen kuin<0.1 mm/year when properly inhibited in closed-loop systems. In this condition, it is widely used in glycol dehydration units and heat transfer systems where metal integrity must be maintained over long operational cycles.
Suojaamattomissa tai estämättömissä järjestelmissäMono-etyleeniglykolivoivat hajota ajan myötä orgaanisiksi hapoiksi, kuten glykolihapoksi ja oksaalihapoksi. Tällaisissa tapauksissa korroosionopeus voi nousta dramaattisesti-tutkimukset osoittavat, että hajonneet glykolijärjestelmät voivat tulla jopa 4 kertaa syövyttävämmiksi kuin vesi, erityisesti kohonneissa yli 120 asteen lämpötiloissa, joissa hapon muodostuminen kiihtyy.
Prosessitekniikan näkökulmasta korroosioriski on voimakkaasti riippuvainen pH-säädöstä. Asianmukaisesti huollettuMEG-glykoli järjestelmät toimivat tyypillisesti pH-alueella 8,0–9,5, mikä estää hapon muodostumista ja suojaa hiiliteräslaitteita. Kun pH laskee alle 6,0, korroosionopeus kasvaa jyrkästi, mikä vaatii usein välitöntä kemiallista käsittelyä tai glykolin regenerointia.
Teollisissa kaasunpoisto- ja lämmönsiirtojärjestelmissä korroosionestopaketteja lisätään yleensä pitoisuuksina 100–500 ppm, mikä varmistaa putkistojen, keittimien ja lämmönvaihtimien pitkäaikaisen suojan. Ilman näitä inhibiittoreita jopa alhainen-happipitoisuus voi kohdata paikallista korroosiota, erityisesti lämpö{5}}stabiilien suolojen ja{6}}hajoamistuotteiden läsnä ollessa.
MEG-korroosioriskin ja -käyttäytymisen luokitustaulukko
| MEG-järjestelmän kunto | Korroosiokäyttäytyminen | Tyypillinen korroosionopeus | Avainmekanismi | Riskitaso |
|---|---|---|---|---|
| Puhdas MEG (tuore, estoton) | Yleensä ei--syövyttävä metalleja | < 0.1 mm/year | Stabiili glykoli, ei hapon muodostusta | Matala |
| Estetty MEG (oikein käsitelty järjestelmä) | Suojaa/korroosiota{0}}suojaava | < 0.05 mm/year | pH-puskurointi + korroosionestoaineet | Erittäin alhainen |
| Vanhentunut MEG (pieni hajoaminen) | Lievästi syövyttävä | 0,1-0,5 mm/vuosi | Orgaanisten happojen varhainen muodostuminen | Kohtalainen |
| Hajonnut MEG (hapon muodostus läsnä) | Syövyttävä hiiliteräkselle | Jopa 4 kertaa korkeampi kuin vesi | Glykolihapon ja oksaalihapon muodostuminen | Korkea |
| Saastunut MEG (hapen/veden sisäänpääsy) | Nopeutettu paikallinen korroosio | >0,5 mm/vuosi (lokalisoitu korkeammalle) | Happi + lämpö-stabiilit suolat | Erittäin korkea |
